중국 최대 D램 제조업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)가 상하이 증시 상장 첫날 주가가 466% 치솟으며 세계 반도체 시장의 주목을 받았다. CXMT의 세계 D램 시장 점유율도 지난해 1분기 3% 수준에서 올해 1분기 8%로 상승해 삼성전자·SK하이닉스·마이크론에 이은 4위 업체로 성장했다.

CXMT의 성장을 기술유출만으로 설명할 수는 없다. 중국 정부의 반도체 자립 지원과 내수시장, 대규모 생산 투자가 복합적으로 작용했다. 다만 한국 법원에서는 삼성전자 출신 인력들이 국가핵심기술인 D램 공정 정보를 CXMT에 넘긴 혐의가 잇따라 유죄로 인정됐다.

서울고법은 지난 4월 삼성전자의 18나노 D램 공정 정보 등을 중국에서 사용한 혐의로 기소된 전직 부장에게 징역 6년4개월과 벌금 2억원을 선고했다. 재판부는 막대한 연구개발 비용을 무력화하고 국가경쟁력에 악영향을 줄 수 있는 중대한 범죄라고 판단했다. 별도의 10나노대 D램 기술유출 사건에서는 전직 삼성전자 연구원에게 징역 7년이 선고됐다.

문제는 피해 규모와 형량 사이의 간극이다. 검찰은 CXMT 관련 기술유출로 삼성전자의 매출 감소 피해가 수조원에 이를 수 있고, 장기적으로는 국가 경제에 더 큰 손실이 발생할 수 있다고 판단했다. 핵심 연구원 한 명이 이직하면 설계도뿐 아니라 시행착오와 공정 노하우, 미래 전략까지 함께 넘어갈 수 있다는 산업계의 우려도 크다.

현재 산업기술보호법은 국가핵심기술을 해외에서 사용하도록 유출하면 3년 이상의 징역과 최대 65억원의 벌금을 함께 부과하도록 규정한다. 대법원 양형위원회도 가중 사유가 있는 국가핵심기술 국외유출에 최대 징역 18년을 권고하고 있다. 그러나 양형기준은 권고 기준이어서 실제 형량은 피고인의 역할과 범행 시점, 증거, 적용 혐의 등에 따라 달라진다. 법을 강화해도 수사와 재판에서 범행 전모와 경제적 피해를 입증하지 못하면 중형으로 이어지기 어렵다는 지적이 나오는 이유다.

국민 여론도 처벌 강화를 요구하고 있다. 한국경영자총협회 조사에서는 응답자의 92.5%가 핵심기술 해외 유출의 경제적 피해를 심각하게 봤고, 90.7%는 처벌 수위를 더 높여야 한다고 답했다.

기술을 빼낸 개인에게 징역 몇 년을 선고하는 것만으로는 이미 해외 기업에 넘어간 경쟁력을 되찾기 어렵다. 기술유출을 개인의 경제범죄가 아닌 경제안보 침해로 다루고, 범죄수익 환수와 브로커·해외 수혜 기업에 대한 제재, 핵심인력 관리까지 함께 강화해야 한다는 목소리가 커지고 있다.